深度数据测量头
授权
摘要

公开了一种深度数据测量头,包括:结构光投射装置,包括在两个红外光图像传感器连线的基线方向上错开布置的至少两个结构光发生器,分别用于向被测空间投射结构光以在被测空间中的待检测物体上形成随机分布的红外纹理;位于结构光投射装置两侧的两个红外光图像传感器用于分别对被测空间成像,从而形成两个红外纹理图像;控制器,分别与结构光投射装置和两个红外光图像传感器连接,用于控制两个红外光图像传感器对红外纹理进行同步拍摄;以及外壳,用于容纳如上装置并固定各装置间相对位置。由此,通过布置上下错开的结构光投射装来避免高光反射现象对深度数据测量的影响。在其他实施例中,上述功能也可通过布置错开的成像装置对来实现。

基本信息
专利标题 :
深度数据测量头
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021095379.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-06-13
授权号 :
CN212567304U
授权日 :
2021-02-19
发明人 :
王敏捷梁雨时
申请人 :
上海图漾信息科技有限公司
申请人地址 :
上海市浦东新区碧波路635号传奇广场302
代理机构 :
北京展翼知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
张阳
优先权 :
CN202021095379.6
主分类号 :
G01B11/25
IPC分类号 :
G01B11/25  G01B11/22  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量;角度的计量;面积的计量;不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/24
用于计量轮廓或曲率
G01B11/25
通过在物体上投影一个图形,例如莫尔条纹
法律状态
2021-02-19 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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