深度数据测量头、测量装置和测量方法
授权
摘要
公开了一种深度数据测量头、测量装置和测量方法。测量头包括:投影装置,用于向拍摄区域扫描投射具有条纹编码的结构光;具有预定相对位置关系的第一和第二图像传感器,用于对拍摄区域进行拍摄以分别获得在结构光照射下的第一和第二二维图像帧,图像传感器中的每个或每组像素列包括N个像素存储子列,其中N是大于或等于2的整数;以及同步装置,用于基于投影装置的扫描位置,同步开启第一和第二图像传感器中与当前扫描位置相对应的条纹方向上的像素列所包含的一个或多个像素存储子列进行成像。由此,提供了高灵活度的像素级深度成像方案,以去除环境光对深度测量结果的影响,并且能够实现对多组投射图案的同时存储,方便后续处理操作。
基本信息
专利标题 :
深度数据测量头、测量装置和测量方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111829449A
申请号 :
CN201910329849.6
公开(公告)日 :
2020-10-27
申请日 :
2019-04-23
授权号 :
CN111829449B
授权日 :
2022-04-12
发明人 :
王敏捷梁雨时
申请人 :
上海图漾信息科技有限公司
申请人地址 :
上海市浦东新区浦东软件园博霞路22号408
代理机构 :
北京展翼知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
张阳
优先权 :
CN201910329849.6
主分类号 :
G01B11/22
IPC分类号 :
G01B11/22 G01B11/25 G01B11/245
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量;角度的计量;面积的计量;不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/22
用于计量深度
法律状态
2022-04-12 :
授权
2020-11-13 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01B 11/22
申请日 : 20190423
申请日 : 20190423
2020-10-27 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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