深度数据测量设备和结构光投射装置
授权
摘要
公开了一种深度数据测量设备和其中包括的结构光投影装置。该设备包括:投射装置,用于向拍摄对象投射结构光;成像装置,用于对所述拍摄对象进行拍摄以获得在所述结构光照射下的二维图像帧,其中,所述结构光投射装置包括:激光发生器,用于生成激光;硅基液晶(LCOS)器件,用于获取所述激光并生成用于进行投射的结构光。本实用新型使用LCOS进行结构光的精细投影,改善深度数据的成像精度。LCOS还可以变换包括散斑或是条纹在内的各种投影编码,从而满足各种成像场景。进一步地,可以结合采用VCSEL结构来实现投影装置的低功耗和小型化。
基本信息
专利标题 :
深度数据测量设备和结构光投射装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021464745.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-07-22
授权号 :
CN212779132U
授权日 :
2021-03-23
发明人 :
王敏捷梁雨时
申请人 :
上海图漾信息科技有限公司
申请人地址 :
上海市浦东新区碧波路635号传奇广场302
代理机构 :
北京展翼知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
张阳
优先权 :
CN202021464745.0
主分类号 :
G01B11/25
IPC分类号 :
G01B11/25
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量;角度的计量;面积的计量;不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/24
用于计量轮廓或曲率
G01B11/25
通过在物体上投影一个图形,例如莫尔条纹
法律状态
2021-03-23 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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