本实用新型公开了一种焦铜离子处理设备，包括沉淀池和过滤池，所述沉淀池和过滤池相对面顶端通过连接板连接，所述沉淀池内部下表面中间位置处安装有第一挡板，所述第一挡板一侧安装有第二挡板，所述第一挡板背离第二挡板的一侧沉淀池上端安装有安装板，所述过滤池内部靠近沉淀池的一侧安装有初过滤层，所述过滤池内部背离沉淀池的一侧安装有超滤层。本实用新型是一种焦铜离子处理设备，能够有效的进行沉降，且能够通过两次过滤，将含有焦铜离子的污水进行有效的处理，过滤完成之后的水，可达到循环使用的标准，能够返回到车间继续使用，能够有效的节省成本。