本实用新型提供了一种晶圆切割制品清洗装置，包括清洗仓以及设置在清洗仓内的工作台与清洗喷头，清洗仓上还设有排气口，工作台的台面一侧以及与工作台的台面相背的一侧均设有清洗喷头，清洗喷头的喷洒方向朝向工作台。本实用新型技术方案通过在工作台的上下两侧各设置一个清洗喷头，以对工作台上的晶圆切割制品的两侧同时进行清洗，同时通过调节清洗喷头的出风压力，以清洗不同顽固程度的颗粒，将清洗下来的颗粒通过排气口排出以集中收集，从而避免了颗粒的飞扬和二次污染，提高清洗质量以及清洗效率以满足光学玻璃表面的洁净度要求。