一种适用于管式PECVD的石墨舟缓存上料机构
授权
摘要
本实用新型公开了一种适用于管式PECVD的石墨舟缓存上料机构，包括：传送线；以及设于所述传送线上的石墨舟缓存组件，所述石墨舟缓存组件包括：缓存底板，其与所述传送线滑动连接；以及至少三片缓存支撑板，其在底板与所述缓存底板相固接；其中，所述缓存支撑板的侧边敞开形成有缓存让位口以使得所述缓存支撑板呈C字形结构；两两所述缓存支撑板等距间隔设置以形成位于相邻两片所述缓存支撑板之间的石墨舟缓存空间。根据本实用新型，其在传送线上设置至少两个石墨舟缓存空间来提高石墨舟缓存上料机构缓存上料多个石墨舟的能力，从而通过多个普通石墨舟的配合使用来避免由于延长石墨舟跨度而导致的石墨舟强度可靠性降低的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种适用于管式PECVD的石墨舟缓存上料机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021239616.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-30
授权号 ：
CN212874461U
授权日 ：
2021-04-02
发明人 ：
周玉龙刘景博王玉明
申请人 ：
苏州拓升智能装备有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市吴中区木渎镇金枫南路1258号B3幢二楼
代理机构 ：
北京远大卓悦知识产权代理有限公司
代理人 ：
孔凡玲
优先权 ：
CN202021239616.1
主分类号 ：
H01L21/677
IPC分类号 ：
H01L21/677 H01L21/67 H01L31/18 C23C16/54
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/677
用于传送的，例如在不同的工作站之间
法律状态
2021-04-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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