一种基于激光干涉的测压系统
授权
摘要
本实用新型公开了一种基于激光干涉的测压系统，本实用新型通过发射装置发出两路激光，一路经弹性测压装置反射给处理器，另一路直接发给处理器，由于弹性测压装置会根据待测体的压力变化进行弹性伸缩变换，使得弹性测压装置反射的激光的光路长度不同，最终处理器会根据上述两路激光检测得到待测体内发出的压力的方向和大小。由于光路的检测更精确，所以本实用新型可以更准确的检测待测体的压力，从而有效解决现有压力传感器检测压力不精确的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种基于激光干涉的测压系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021274468.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-03
授权号 ：
CN212645938U
授权日 ：
2021-03-02
发明人 ：
何立平湛月张晓龙王鹏飞张芮闻周砚扬马乐乐
申请人 ：
中国电子科技集团公司电子科学研究院
申请人地址 ：
北京市石景山区双园路11号
代理机构 ：
工业和信息化部电子专利中心
代理人 ：
罗丹
优先权 ：
CN202021274468.7
主分类号 ：
G01L1/24
IPC分类号 ：
G01L1/24
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01L
测量力、应力、转矩、功、机械功率、机械效率或流体压力
G01L1/00
力或应力的一般计量
G01L1/24
通过测量材料受应力时其光学性质的变化，例如，应用光弹性应力分析
法律状态
2021-03-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN212645938U.PDF
PDF下载
