全反射微波器件
授权
摘要
本实用新型公开了一种全反射微波器件，所述全反射微波器件包括介质层及位于介质层全部或部分表面的若干亚波长结构层，所述亚波长结构层包括若干呈阵列周期状分布的微结构，亚波长结构层用于对介质层内的微波进行全反射限制和/或对介质层外的微波进行吸收。本实用新型的微波器件无需在微波器件表面镀覆金属层，即可实现器件内微波的全反射及器件外微波的全吸收，大幅降低了器件的制造成本；易于设计、加工和制造，可大规模产业化，适用于具有机械振动、宽温工作等环境中微波器件的研制和生产，在现代电子通信系统中具有重要运用价值。
基本信息
专利标题 ：
全反射微波器件
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021434875.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-20
授权号 ：
CN212277350U
授权日 ：
2021-01-01
发明人 ：
苏晓东邹帅
申请人 ：
苏州银琈玛电子科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市相城区高铁新城南天成路28号10层1011室
代理机构 ：
苏州三英知识产权代理有限公司
代理人 ：
周仁青
优先权 ：
CN202021434875.X
主分类号 ：
H01P1/00
IPC分类号 ：
H01P1/00 H01P3/16 H01P11/00
法律状态
2021-01-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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