本实用新型公开了一种高浊度水沉淀装置及二次去除杂质装置，包括箱体，所述箱体底部设有底座，所述底座壁体之间设有承托架，所述箱体承托安装在承托架上，所述箱体一侧上方壁体设有溢流口，所述箱体内中间位置壁体上设有斜板，所述箱体底部在斜板底部两侧前端与后端分别设有斜底，所述斜板内还设有进水机构，所述箱体后端壁体上一侧设有加药机构，另一侧设有过滤机构。本实用新型所述的种高浊度水沉淀装置及二次去除杂质装置，属于水处理设备领域，通过其其进水机构、加药机构与斜板的设置，能够使得水体内的污染物进行快速沉淀，同时通过吸泥机构与过滤机构的设置，能够将其沉淀的污染物进行清除并进一步的过滤收集。