线扫对位设备
授权
摘要
本实用新型属于光电检测设备技术领域，尤其涉及一种线扫对位设备，包括罩体、扫描镜头和双工位扫描机构；所述罩体的内部中空设置有容纳腔，所述罩体的底部还贯穿开设有与所述容纳腔相连通的避位槽，所述双工位扫描机构设于所述罩体的底部以用于向工件加载电压，所述扫描镜头设于所述容纳腔内以用于检测工件；由于双工位扫描机构具备两个工位的检测零件，那么双工位扫描机构在对待检测工件进行扫描的时候就能够得出更精确的数据，罩体的底部开设有一个避位槽，那么扫描镜头就可以通过开设的避位槽摄取检测影像，从而直接得到检测结果，通过设置的双工位扫描机构，对待检测工件实现更精确地扫描，提高了检测精度。
基本信息
专利标题 ：
线扫对位设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021528270.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-28
授权号 ：
CN212572479U
授权日 ：
2021-02-19
发明人 ：
李小明刘晓云李斌
申请人 ：
东莞敏威光电科技有限公司
申请人地址 ：
广东省东莞市东城街道主山东城南路39号美居中心A6栋308-312
代理机构 ：
东莞市科凯伟成知识产权代理有限公司
代理人 ：
王宇聪
优先权 ：
CN202021528270.7
主分类号 ：
H02S50/10
IPC分类号 ：
H02S50/10 H01L21/67 H01L21/66
法律状态
2021-02-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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