对位装置及巨量转移设备
授权
摘要
本实用新型涉及一种对位装置及巨量转移设备。所述对位装置包括基座和图像采集模块；所述基座包括安装板和位置调整机构，所述位置调整机构与安装板连接，用于调整所述安装板在多个方向上的位置；所述图像采集模块设置在所述基座的安装板上。上述对位装置中的位置调整机构能调整图像采集模块在多个方向上的位置，通过调整图像采集模块在多个方向上的位置，可以在图像采集模块与待要对位成像的目标位置之间不对应时使二者达到对应，也可以在图像采集模块和待要对位成像的目标位置之间的距离过大或过小、影响成像质量时，使图像采集模块和目标位置之间的距离能够回到适合的距离，从而满足对位成像过程对图像采集模块的位置的各种要求。
基本信息
专利标题 ：
对位装置及巨量转移设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123390524.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-29
授权号 ：
CN216597542U
授权日 ：
2022-05-24
发明人 ：
喻泷
申请人 ：
深圳鼎晶科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市南山区西丽街道阳光社区松白路1008号企航科创研发产业园F栋101
代理机构 ：
深圳智汇远见知识产权代理有限公司
代理人 ：
聂磊
优先权 ：
CN202123390524.0
主分类号 ：
H01L21/68
IPC分类号 ：
H01L21/68 H01L33/48
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/68
用于定位、定向或对准的
法律状态
2022-05-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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