一种大型超硬纳米薄膜涂层设备
授权
摘要
一种大型超硬纳米薄膜涂层设备，包括滑阀泵、预抽阀、前级阀、扩散阀、高阀、真空镀膜室，所述真空镀膜室包括镀膜室主体、旋转挂架结构和镀膜室门结构，所述旋转挂架结构设置在镀膜室主体中间位置，所述镀膜室门结构设置在镀膜室主体侧边；所述镀膜室门结构为双层结构，所述隔层中设置有脉冲电磁发生器。在双层结构的镀膜室门结构中间层设置脉冲电磁发生器，使腔内等离子能量成倍的加强，从而大大提高了镀膜的沉积速度，提高了真空镀膜室中被镀工件从上到下的均匀性能。
基本信息
专利标题 ：
一种大型超硬纳米薄膜涂层设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021604399.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-05
授权号 ：
CN212864959U
授权日 ：
2021-04-02
发明人 ：
周树法
申请人 ：
昆山立特纳米电子科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市昆山市玉山镇亿升路398号3号房103、104室
代理机构 ：
苏州市方略专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘燕娇
优先权 ：
CN202021604399.1
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 B82Y40/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2021-04-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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