铜箔的预处理装备
授权
摘要
本实用新型提供一种铜箔的预处理装备，包括：放卷装置，用于输送铜箔；收卷装置，用于卷绕并回收铜箔；预氧化装置，分别连接所述放卷装置和所述收卷装置，用于对铜箔进行氧化处理；以及控制组件，用于控制所述放卷装置、所述预氧化装置以及所述收卷装置的运行参数。本实用新型的预处理装备能够为卷对卷动态生长石墨烯薄膜稳定地提供氧化均匀的铜箔基底，以一定程度上消除工业铜箔出厂状态对石墨烯生产工艺稳定性的影响。
基本信息
专利标题 ：
铜箔的预处理装备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021670892.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-12
授权号 ：
CN213013060U
授权日 ：
2021-04-20
发明人 ：
彭海琳李勤杨倩查冰杰刘忠范
申请人 ：
北京石墨烯研究院;北京大学
申请人地址 ：
北京市海淀区苏家坨镇翠湖南路13号院中关村翠湖科技园2号楼
代理机构 ：
北京律智知识产权代理有限公司
代理人 ：
董天宝
优先权 ：
CN202021670892.3
主分类号 ：
C23C8/12
IPC分类号 ：
C23C8/12 B65H23/038 B65H23/26 B65H18/10
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C8/00
金属材料表面中仅渗入非金属元素的固渗；材料表面与一种活性气体反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理法，例如转化层、金属的钝化
C23C8/06
使用气体的
C23C8/08
仅用一种元素的
C23C8/10
氧化
C23C8/12
使用元素氧或臭氧的
法律状态
2021-04-20 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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