一种具有定量供水的防回水光刻机
授权
摘要
本实用新型公开了一种具有定量供水的防回水光刻机，其结构包括光刻机和供水装置，光刻机左端镶嵌设有供水装置，供水装置与光刻机电连接，本实用新型具有以下有益效果，通过在水箱装配座内部设有供水顶压头搭配具有供水活动板的便捷水箱，在放置时供水活动板会被供水顶压头顶起实现水箱供水的开启，而在水箱提起时，供水活动板会自动闭合关闭水箱，使水箱能够通过直接放置装配使用时，便于水箱的装配，使水箱便于更换维修，通过在水箱装配座上设有升降用电机的通电联动装置，并将通电联动装置与阀门的密闭盖板相连，使设备在阀门开启时设备会对升降电机断电，反之则通电，使设备能够防止供水时水箱的升降移动，保证供水的正常运行。
基本信息
专利标题 ：
一种具有定量供水的防回水光刻机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021689214.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-14
授权号 ：
CN212623570U
授权日 ：
2021-02-26
发明人 ：
李俊毅陈舜钦姚恒裕林雅芳李雅瑜
申请人 ：
福建安芯半导体科技有限公司
申请人地址 ：
福建省泉州市南安市石井镇院前村2号
代理机构 ：
泉州市兴博知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
易敏
优先权 ：
CN202021689214.1
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-02-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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