焦平面红外传感器
授权
摘要
本申请提供一种焦平面红外传感器，包括：运算放大器；盲元电路，包括若干盲元电阻，用于根据所述运算放大器的偏置产生暗场电流；敏感元电路，包括若干敏感元电阻，用于根据所述运算放大器的偏置产生热电流；其中，所述盲元电阻与所述敏感元电阻具有相同的电路结构；减法电路，用于将所述暗场电流与所述热电流做减法以产生电流差，其中，所述减法电路还包括一选择电路，所述选择电路选择性导通以使所述盲元电路或所述敏感元电路根据所述运算放大器的偏置产生所述暗场电流或热电流；以及积分电路，用于在积分周期内对所述电流差进行积分。
基本信息
专利标题 ：
焦平面红外传感器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021698101.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-14
授权号 ：
CN213209277U
授权日 ：
2021-05-14
发明人 ：
任冠京李跃莫要武陈鹏
申请人 ：
思特威（上海）电子科技股份有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区自由贸易试验区祥科路111号3号楼6楼612室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202021698101.8
主分类号 ：
G01J5/20
IPC分类号 ：
G01J5/20 G01J5/24 G01J5/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01J
红外光、可见光、紫外光的强度、速度、光谱成分，偏振、相位或脉冲特性的测量；比色法；辐射高温测定法
G01J5/00
辐射高温测定法
G01J5/10
用电辐射检测器
G01J5/20
用对辐射敏感的电阻器，热敏电阻器或半导体
法律状态
2021-05-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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