晶圆清洗装置
授权
摘要
本申请公开一种晶圆清洗装置，其中所述晶圆清洗装置包括一挡液件和一清洗组件，其中所述挡液件具有一顶壁和自所述顶壁沿竖直方向延伸的一挡液壁，其中所述顶壁和所述挡液臂之间形成一清洗空间，其中所述挡液壁的底部形成与所述清洗空间连通的一开口，供一待清洗的晶圆组件的晶圆进入所述清洗空间之后，待清洗的晶圆组件的固定膜被所述挡液件的底部罩压，其中所述清洗组件在所述清洗空间中形成一出液口，以将清洗液导入位于所述清洗空间的待清洗的晶圆。
基本信息
专利标题 ：
晶圆清洗装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021721173.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-17
授权号 ：
CN213529838U
授权日 ：
2021-06-25
发明人 ：
王孝军范亚飞
申请人 ：
上海允哲机电科技有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区鹿吉路353号1幢101室
代理机构 ：
上海领洋专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
罗晓鹏
优先权 ：
CN202021721173.X
主分类号 ：
B08B3/02
IPC分类号 ：
B08B3/02 B08B5/04 H01L21/67
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/02
用喷射力来清洁
法律状态
2021-06-25 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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