基于环状磁约束技术的击穿光谱检测系统
授权
摘要
本实用新型提供了一种基于环状磁约束技术的击穿光谱检测系统，所述系统包括激光发射机构、环状磁场机构、检测机构、信号采集机构和计算机；所述检测机构包括用于放置被测样品的置物台，所述环状磁场机构包括环绕所述置物台设置的N极大磁铁、S极大磁铁、第一N极小磁铁、第二N极小磁铁、第一S极小磁铁和第二S极小磁铁；本实用新型将激光诱导击穿光谱技术与环状磁场约束组合测量具有更高的灵敏度和准确度，本实用新型采用的是环状磁场，为激光诱导击穿光谱技术的谱线增强方法提供了新的思路，在该领域具有广阔的应用前景。
基本信息
专利标题 ：
基于环状磁约束技术的击穿光谱检测系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021838913.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-28
授权号 ：
CN212341016U
授权日 ：
2021-01-12
发明人 ：
李红莲谢红杰张仕钊李小亭方立德
申请人 ：
河北大学
申请人地址 ：
河北省保定市五四东路180号
代理机构 ：
石家庄国域专利商标事务所有限公司
代理人 ：
张莉静
优先权 ：
CN202021838913.8
主分类号 ：
G01N21/71
IPC分类号 ：
G01N21/71
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/62
所测试的材料在其中被激发，因之引起材料发光或入射光的波长发生变化的系统
G01N21/71
热激发的
法律状态
2021-01-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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