一种多晶硅生产用杂质脱除系统
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摘要

本实用新型公开了一种多晶硅生产用杂质脱除系统,属于多晶硅生产技术领域,包括主管,主管的前端与合成精馏塔塔釜相连,主管分别与渣浆管、第一进料管、第一出料管、第三进料管和第三出料管相连,第一进料管与第一出料管之间设置有第一吸附塔,第一吸附塔前端的主管上设置有第一冷却器,第三进料管与第三出料管之间设置有第三吸附塔,第三吸附塔前端的主管上设置有第二冷却器,主管的后端与精馏原料罐相连。

基本信息
专利标题 :
一种多晶硅生产用杂质脱除系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021849542.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-08-31
授权号 :
CN213037421U
授权日 :
2021-04-23
发明人 :
官健冉祎罗轩李伟李宏陈德彬谢锋蔡光明张海军郭杨钟国俊
申请人 :
四川永祥多晶硅有限公司
申请人地址 :
四川省乐山市五通桥区竹根镇永祥路100号
代理机构 :
成都天嘉专利事务所(普通合伙)
代理人 :
赵丽
优先权 :
CN202021849542.3
主分类号 :
C01B33/107
IPC分类号 :
C01B33/107  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C01
无机化学
C01B
非金属元素;其化合物
C01B33/00
硅; 其化合物
C01B33/08
含卤素的化合物
C01B33/107
卤化硅烷
法律状态
2021-04-23 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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