一种靶材高使用率的平面阴极
授权
摘要
本实用新型公开了一种靶材高使用率的平面阴极，包括屏蔽板、磁钢组件和靶材固定件，所述磁钢组件设置在屏蔽板的屏蔽槽内，所述磁钢组件包括安装座、靶壳和磁体，所述安装座的下端设置有两条轨道板，轨道板位于靶壳两侧，轨道板朝向靶壳的侧壁上设置有轨道槽，轨道槽中设置有齿条，靶壳的上端两侧分别固定有若干电机，所述电机的机轴上设置有与齿条啮合的齿轮，靶壳通过电机支撑安装在安装座下方。本实用新型具有的优点是靶壳安装在安装座下方的轨道槽内，通过启动电机，使得靶壳可以沿轨道槽做往返运动，磁体的延伸方向垂直于轨道槽，靶壳带动下方的磁体运动，从而使得轰击位置可以更换，调节强轰击面，使得靶材使用率得到提升，降低了生产成本。
基本信息
专利标题 ：
一种靶材高使用率的平面阴极
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021881377.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-01
授权号 ：
CN213624354U
授权日 ：
2021-07-06
发明人 ：
李忠
申请人 ：
成都齐荣科技有限公司
申请人地址 ：
四川省成都市经济技术开发区(龙泉驿区)星光西路24号实德工业园
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202021881377.X
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2021-07-06 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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