一种避免交叉污染的半导体零件清洗装置
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摘要

本实用新型公开了一种避免交叉污染的半导体零件清洗装置,包括底座,底座的周边四角部位打磨成圆角,底座的中间部位顶部焊接安装第一支架,第一支架的表面等间距开设有插孔,插孔的内部插接安装横杆,横杆的两侧末端开设有轴肩,横杆的中间部位等间距开设有安装槽,安装槽的表面套接安装夹持套环,夹持套环通过螺栓锁紧,夹持套环的底部焊接安装铝条,铝条的背部螺纹安装半导体板,铝条与半导体板之间通过钛螺丝螺纹安装,半导体板的正前方悬空架接清洗装置,清洗装置的背部通过第二支架固定安置,清洗装置的背部贯穿插接安装上水口,第二支架的尾部焊接安装铁环,铁环滑动套接安装在竖杆的表面,铁环的底部固定安装气缸,气缸固定螺纹安装在圆盘的顶部。

基本信息
专利标题 :
一种避免交叉污染的半导体零件清洗装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021941455.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-09-08
授权号 :
CN213378124U
授权日 :
2021-06-08
发明人 :
何桥
申请人 :
安徽应友光电科技有限公司
申请人地址 :
安徽省滁州市全椒县十谭现代产业园
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202021941455.0
主分类号 :
B08B3/02
IPC分类号 :
B08B3/02  B08B1/00  B08B13/00  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/02
用喷射力来清洁
法律状态
2021-06-08 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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