压力测定基座及压力测定仪

授权

摘要

本实用新型公开了一种压力测定基座及压力测定仪，压力测定基座包括底座及盖板，所述底座包括底板及自所述底板的外侧向上延伸的侧壁，所述侧壁与所述底板之间形成容置空间，所述容置空间用于放置所述波形弹簧片，所述盖板用于压设于所述波形弹簧片的上侧面。本实用新型的压力测定基座利用侧壁与底板形成容置空间，并利用容置空间放置波形弹簧片，再利用盖板压设于波形弹簧片的上侧面，当对盖板施加压力时，由于侧壁的阻挡，盖板与波形弹簧片之间难以发生侧向的轻微移动，从而能够更加准确的测定波形弹簧片的力学参数。本实用新型的压力测定基座结构简单、便于使用、能够提高测定波形弹簧片的力学参数的准确性。

基本信息

专利标题：

压力测定基座及压力测定仪

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202021952791.5

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-09-09

授权号：

CN212748285U

授权日：

2021-03-19

发明人：

蔡云

申请人：

上海东培企业有限公司

申请人地址：

上海市松江区松江工业区荣乐东路1555号

代理机构：

上海弼兴律师事务所

代理人：

胡美强

优先权：

CN202021952791.5

主分类号：

G01M13/00

IPC分类号：

G01M13/00