去除单晶硅棒表面损伤层的装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种去除单晶硅棒表面损伤层的装置,包括箱体,箱体内部一侧均固定安装有气泵,箱体内部在靠近气泵的一侧固定安装有水箱,水箱的另一侧固定安装有水泵,且水箱与水泵通过管道相互接通,箱体内部两侧均固定安装有电机,箱体内部在靠近电机的顶部均固定安装有丝杠,丝杠上套设有滑块,箱体顶部设置有打磨辊和挤压辊,箱体顶部在靠近打磨辊和挤压辊的底部设置有若干固定座,固定座顶部固定安装有滚轮,箱体的顶部四角固定安装有立柱,立柱的顶部固定安装有顶板。该种去除单晶硅棒表面损伤层的装置,结构简单合理,操作方便,有效解决了现有多数去除单晶硅棒表面损伤层装置缺少收集切削废料和切屑液的问题,具有广泛推广使用的价值。
基本信息
专利标题 :
去除单晶硅棒表面损伤层的装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022175817.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-09-28
授权号 :
CN212706067U
授权日 :
2021-03-16
发明人 :
杨帆郇磊磊沈杨
申请人 :
晶海洋半导体材料(东海)有限公司
申请人地址 :
江苏省连云港市东海县高新区(铁路南侧、湖东路东侧)
代理机构 :
连云港润知专利代理事务所
代理人 :
王彦明
优先权 :
CN202022175817.6
主分类号 :
B24B27/033
IPC分类号 :
B24B27/033 B24B41/00 B24B55/06 B24B41/02 B01D29/01
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B24
磨削;抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺(用电蚀入B23H;磨料或有关喷射入B24C;电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00;磨具磨损表面的修理或调节;磨削,抛光剂或研磨剂的进给
B24B27/00
其他磨床或装置
B24B27/033
用于清理目的的磨削表面,如清除氧化皮或磨掉表面裂纹
法律状态
2021-03-16 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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