一种喷嘴气道清洗治具
授权
摘要

本实用新型提供了一种喷嘴气道清洗治具,包括治具本体,所述治具本体包括上通水部、下承接部以及设置于所述上通水部上的注水口,待清洗的喷头限位放置于所述上通水部和下承接部之间,清洗液由所述注水口通入并流经所述喷头的气孔内进行清洗;通过设置由上通水部和下承接部组成的治具本体,两者通过可拆卸安装形成一开放的安装空间,并在上通水部上开设注水口,将待清洗的喷头安装于治具本体空间内后通过利用超纯水强制流过气孔,达到气道清洁的目的,进而有效去除气道内的微尘粒子,降低生产成本,提高产品质量,解决了现有技术中存在的喷头气道无法清洗、需频繁报废更换的技术问题。

基本信息
专利标题 :
一种喷嘴气道清洗治具
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022187509.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-09-29
授权号 :
CN212848329U
授权日 :
2021-03-30
发明人 :
杨苏圣
申请人 :
湖州科秉电子科技有限公司
申请人地址 :
浙江省湖州市成业路389号3号厂房
代理机构 :
北京众合诚成知识产权代理有限公司
代理人 :
周孝林
优先权 :
CN202022187509.5
主分类号 :
H01L21/67
IPC分类号 :
H01L21/67  
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2021-03-30 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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