用于化学气相沉积设备喷嘴的流量检测治具
授权
摘要
本实用新型公开了用于化学气相沉积设备喷嘴的流量检测治具，包括基板，基板上设置有至少一个上下导通的检测管道，检测管道的侧壁上设置有检测其内气体流量的流量探测计，检测管道上端密封连接有供喷嘴放置的套管，套管的下端插入套管内并通过密封组件与套管密封连接，每个套管正上方均设置有能沿其上下移动的测试头，每个测试头均与驱动组件连接，并在驱动组件作用下移动，测试头分别通过对应设置的气管连通外部气源，外部气源通过测试头朝向喷嘴内提供检测气体。能对喷嘴内喷神通道的最大流量进行快速检测。
基本信息
专利标题 ：
用于化学气相沉积设备喷嘴的流量检测治具
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123025854.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-03
授权号 ：
CN216348903U
授权日 ：
2022-04-19
发明人 ：
赖学明
申请人 ：
苏州耀德半导体有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市苏州工业园区泾茂路168号E栋1F105室(该地址不得从事零售)
代理机构 ：
苏州汇诚汇智专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
柯兴宇
优先权 ：
CN202123025854.X
主分类号 ：
G01F15/00
IPC分类号 ：
G01F15/00 F16J15/06
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01F
容积、流量、质量流量或液位的测量；按容积进行测量
G01F15/00
用于组G01F1/00至G01F13/00范围的零部件或仪器的，但不专用于其中特定类型仪器的零件或附件
法律状态
2022-04-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
