一种蒸发钼舟
授权
摘要
本实用新型涉及真空蒸发材料镀覆配套技术领域，且公开了一种蒸发钼舟，包括钼舟本体，所述钼舟本体的两端对称安装有舟翼，所述钼舟本体的顶壁设置有蒸发盖板，所述蒸发盖板上开设有多个蒸发孔，所述蒸发盖板的顶端设置有观察口，所述蒸发盖板的一端固定连接有提手耳，所述提手上开设有通孔。该蒸发钼舟，通过使用可拆卸蒸发盖板和在蒸发盖板上设置有提手耳便与工作人员拆卸和清洗，加工企业不用更换新的蒸发钼舟来解决由此导致的产品质量问题，蒸发盖板通过清洗后可以反复利用，解决了加工企业的生产进度并导致加工成本的攀升的问题，通过在钼舟本体内部设置加强筋，可以放置钼舟本体因长期使用发生变形的情况，增加了使用寿命。
基本信息
专利标题 ：
一种蒸发钼舟
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022277347.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-14
授权号 ：
CN213803958U
授权日 ：
2021-07-27
发明人 ：
姬金葵
申请人 ：
张泽
申请人地址 ：
福建省泉州市惠安县崇武镇港墘村燕东43号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202022277347.4
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/52
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2021-07-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
