具有侧壁大镀膜孔的钼舟
授权
摘要
提供一种具有侧壁大镀膜孔的钼舟，属于镀膜装置技术领域，包括钼舟本体，钼舟本体包括有用于盛放镀膜料的钼舟舟舱，钼舟舟舱两端对称制有钼舟舟翼，钼舟舟舱上部开口且开口通过钼舟舟盖盖合，钼舟舟舱两侧壁上各设有一个便于镀膜大零件的大镀膜孔。本实用新型采用在侧壁上制大镀膜孔，提高舟舱内膜料蒸发出口面积，提高膜料蒸发速度，特别适用于大零件的快速均匀镀层工艺，提高大零件镀膜的效率，镀膜质量稳定，均匀性好；而且彻底解决了蒸发口的堵塞，加工工艺较现有的多孔式结构更加简单方便，延长钼舟使用寿命，降低生产成本，能够达到最佳的金属镀膜效果。
基本信息
专利标题 ：
具有侧壁大镀膜孔的钼舟
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022251690.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-12
授权号 ：
CN213476087U
授权日 ：
2021-06-18
发明人 ：
赵锋毛姬红
申请人 ：
宝鸡市天瑞有色金属材料有限责任公司
申请人地址 ：
陕西省宝鸡市高新开发区高新大道50号财富大厦B座1507号
代理机构 ：
北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
宋秀珍
优先权 ：
CN202022251690.1
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2021-06-18 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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