一种用于金属陶瓷复合纳米涂层的镀膜装置
授权
摘要
本实用新型适用于复合纳米材料镀膜技术领域，提供了一种用于金属陶瓷复合纳米涂层的镀膜装置，其特征在于，包括真空箱、顶盖、铰支架、密封窗、第一蒸发室、第二蒸发室、第三蒸发室、真空泵、冷凝泵，由于所述行星轮、所述太阳轮和所述内啮合齿轮构成行星轮系，且所述内啮合齿轮固定在真空箱下部，所以所述行星轮在实现围绕所述太阳轮公转的同时可以实现自转，这样有利于多个靶材的镀层，同时保证靶材的镀层均匀，而多个蒸发室则能满足复合纳米涂层的镀膜要求。
基本信息
专利标题 ：
一种用于金属陶瓷复合纳米涂层的镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022331035.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-19
授权号 ：
CN213624350U
授权日 ：
2021-07-06
发明人 ：
刘平
申请人 ：
妙壳新材料科技（东莞）有限公司
申请人地址 ：
广东省东莞市长安镇霄边社区德政中路62号巨峰德荣工业园B栋一楼103
代理机构 ：
北京棘龙知识产权代理有限公司
代理人 ：
聂颖
优先权 ：
CN202022331035.7
主分类号 ：
C23C14/26
IPC分类号 ：
C23C14/26 C23C14/50 C23C14/54 B82Y40/00
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/26
电阻加热蒸发源法或感应加热蒸发源法
法律状态
2021-07-06 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN213624350U.PDF
PDF下载
