具有复合镀膜涂层的PCB微钻钻头
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
摘要

本实用新型公开了一种具有复合镀膜涂层的PCB微钻钻头,该微钻钻头包括钻柄和钻体,所述钻柄和钻体的外侧包覆有复合镀膜涂层,所述复合镀膜涂层分为内层和复合层;所述内层的材料为Cr,其厚度为0.1‑0.5微米;所述复合层的材料为CrAlTiN/CrN,其厚度为2‑5微米;所述CrAlTiN/CrN是由多个CrAlTiN层和CrN层构成,各CrAlTiN层和CrN层交替沉积在微钻钻头上形成纳米量级叠压的复合层。本实用新型结构设计合理,其内层的晶粒度与微钻钻头的晶粒度位于同一量级,能够保证良好的结合力;具有高硬度和高弹性模量的特点,CrN层的插入使复合镀膜涂层具有良好的耐蚀性,延长其使用寿命。

基本信息
专利标题 :
具有复合镀膜涂层的PCB微钻钻头
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021154670.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-06-20
授权号 :
CN212426164U
授权日 :
2021-01-29
发明人 :
俞建星刘吉庆孙游
申请人 :
华伟纳精密工具(昆山)有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市昆山市淀山湖镇欧美工业园双马路88号
代理机构 :
苏州九方专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
张文婷
优先权 :
CN202021154670.6
主分类号 :
C23C14/35
IPC分类号 :
C23C14/35  C23C14/06  B23B51/00  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的,例如磁控溅射
法律状态
2022-01-07 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
IPC(主分类) : C23C 14/35
变更事项 : 专利权人
变更前 : 华伟纳精密工具(昆山)有限公司
变更后 : 金洲精工科技(昆山)有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 215345 江苏省苏州市昆山市淀山湖镇欧美工业园双马路88号
变更后 : 215345 江苏省苏州市昆山市淀山湖镇欧美工业园双马路88号
2021-01-29 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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