一种TiNb涂层的镀膜方法
实质审查的生效
摘要
一种TiNb涂层的镀膜方法，所述TiNb涂层的镀膜方法的TiNb合金靶材的配比为Nb＝55～65％，其余为Ti，事先设置好了靶材中Nb和Ti的配比，因此在TiNb合金靶材蒸发产生相应离子，沉积到被镀工件表面形成TiNb膜层时，能精准控制Nb和Ti蒸发比例。并且TiNb合金靶材的该配比为最佳比例，使得在最佳配比下形成的TiNb膜层的成分配比为Nb＝60％～63％，其余为Ti、N、以及Ar，使所述TiNb膜层具有更好的强度。相较于两种单质靶材混合镀，操作更简单，并使TiNb膜层的比例更精准，提高TiNb膜层的强度和被镀件的耐用性。
基本信息
专利标题 ：
一种TiNb涂层的镀膜方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114411098A
申请号 ：
CN202111570093.8
公开（公告）日 ：
2022-04-29
申请日 ：
2021-12-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
毕凯陈大民
申请人 ：
嘉兴岱源真空科技有限公司
申请人地址 ：
浙江省嘉兴市嘉善县罗星街道归谷二路8号2楼
代理机构 ：
北京中政联科专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
燕宏伟
优先权 ：
CN202111570093.8
主分类号 ：
C23C14/32
IPC分类号 ：
C23C14/32 C23C14/16 C23C14/14 C23C14/06 C23C14/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/32
爆炸法；蒸发及随后的气化物电离法
法律状态
2022-05-20 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/32
申请日 : 20211221
申请日 : 20211221
2022-04-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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