镀膜方法
实质审查的生效
摘要
本发明提供的了一种镀膜方法，所述镀膜方法包括：选用靶材，所述靶材包括金属；通过气相沉积将所述靶材真空镀膜于生物组织的表面，形成涂层。如此设置，可以制备兼顾抗钙化、抗菌作用且能实现生物组织干态保存的涂层，提高生物组织的使用率。
基本信息
专利标题 ：
镀膜方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114481070A
申请号 ：
CN202210112028.9
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2022-01-27
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李希恂杨威魏勇强
申请人 ：
上海臻亿医疗科技有限公司;江苏臻亿医疗科技有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区中国（上海）自由贸易试验区宁桥路999号T152幢四层西401单元
代理机构 ：
上海思捷知识产权代理有限公司
代理人 ：
郑玮
优先权 ：
CN202210112028.9
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/20
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2022-05-31 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/35
申请日 : 20220127
申请日 : 20220127
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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