反射式共聚焦成像装置
授权
摘要
本发明公开了一种反射式共聚焦成像装置,包括:物镜、第一透镜、1/4波片、第二透镜、高速扫描振镜、分光棱镜、激光器、第三透镜、针孔、第四透镜、光电倍增管以及计算机;所述激光器发出的激光经所述分光棱镜反射至所述高速扫描振镜,然后依次通过所述第二透镜、1/4波片、第一透镜、物镜后照射到样品上,样品的反射光原路返回至所述分光棱镜,反射光透射所述分光棱镜后再依次通过所述第三透镜、针孔、第四透镜后到达所述光电倍增管,所述光电倍增管将采集的反射光信号传输至所述计算机中进行成像。本发明的反射式共聚焦成像装置,各元件布置紧凑,结构简单,体积小,使用方便,能用于皮肤病的观测。
基本信息
专利标题 :
反射式共聚焦成像装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022435855.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-10-28
授权号 :
CN213517727U
授权日 :
2021-06-22
发明人 :
冷冰臧志刚陈永超曾海滨高歌姜琛昱
申请人 :
中国科学院苏州生物医学工程技术研究所;济南国科医工科技发展有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市高新区科技城科灵路88号
代理机构 :
北京远大卓悦知识产权代理有限公司
代理人 :
孔凡玲
优先权 :
CN202022435855.0
主分类号 :
G02B21/00
IPC分类号 :
G02B21/00
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B21/00
显微镜
法律状态
2021-06-22 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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