共聚焦扫描式暗场显微成像方法与装置
授权
摘要
本发明公开了一种共聚焦扫描式暗场显微成像方法与装置，该方法将激光器发出的激光光束的相位调制成0‑2nπ涡旋相位，其中n＞3；将调制后的光束与共聚焦扫描显微镜的物镜入瞳共轭，使得物镜的聚焦光斑为空心光斑，且空心光斑内环半径大于不进行相位调制时的实心光斑半径；使共聚焦扫描显微镜工作，实现暗场显微成像。本发明采用共聚焦设计，在探测器前放置一个小孔，小孔所在平面与物面共轭，阻挡了离焦信号进入探测器，这种设计提高了成像的信噪比和分辨率，使暗场显微成像具有良好的层析能力。
基本信息
专利标题 ：
共聚焦扫描式暗场显微成像方法与装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113281891A
申请号 ：
CN202110547197.0
公开（公告）日 ：
2021-08-20
申请日 ：
2021-05-19
授权号 ：
CN113281891B
授权日 ：
2022-06-10
发明人 ：
匡翠方邱宇轩张宇森刘旭
申请人 ：
浙江大学
申请人地址 ：
浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号
代理机构 ：
杭州求是专利事务所有限公司
代理人 ：
刘静
优先权 ：
CN202110547197.0
主分类号 ：
G02B21/00
IPC分类号 ：
G02B21/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B21/00
显微镜
法律状态
2022-06-10 ：
授权
2021-09-07 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 21/00
申请日 : 20210519
申请日 : 20210519
2021-08-20 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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