用于叠对测量的光栅目标结构的暗场成像
公开
摘要
一种计量系统可包含照射子系统以用具有对称离轴照射轮廓的照射来照射样本上的计量目标，其中所述对称离轴照射轮廓沿着一或多个测量方向而对称，且其中所述照射子系统以同时方式或顺序方式中的至少一者提供所述对称离轴照射轮廓中来自相对角的照射。所述计量目标可包含所述样本的第一层上的第一周期性结构及所述样本的第二层上的第二周期性结构。所述计量系统可进一步包含成像子系统以产生使用来自所述对称离轴照射轮廓的每一点的两个非零衍射级形成的所述计量目标的图像。所述计量子系统可基于所述一或多个图像而进一步确定指示所述第一层与所述第二层之间的对准的叠对误差。
基本信息
专利标题 ：
用于叠对测量的光栅目标结构的暗场成像
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114341594A
申请号 ：
CN202080061806.5
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2020-08-31
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
A·希尔A·玛纳森
申请人 ：
科磊股份有限公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京律盟知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
刘丽楠
优先权 ：
CN202080061806.5
主分类号 ：
G01B11/27
IPC分类号 ：
G01B11/27 G06T7/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/27
••用于检测轴线准直
法律状态
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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