光栅线密度测量装置
授权
摘要
本申请公开了一种光栅线密度测量装置，该装置包括：激光器和挡光板，激光器出射激光光束透过挡光板上的通光孔入射待测光栅，调整待测光栅至通光孔的圆心为衍射光斑圆心时，待测光栅满足0级littrow条件或‑1级Littrow条件，待测光栅从满足0级littrow条件到满足‑1级Littrow条件所转过的角度即为衍射角α，光栅线密度m：m＝2*106*sinα/λ，其中，λ为激光光束的波长。该装置充分利用衍射光斑面积较大的特点，在不去除衍射光斑面积的情况下，简化测量装置结构，仅需增加挡光板即可消除衍射光斑面积对测量结果的影响，能够精确测量光栅的实际线密度。
基本信息
专利标题 ：
光栅线密度测量装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920721956.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-05-20
授权号 ：
CN209689889U
授权日 ：
2019-11-26
发明人 ：
李广伟陈怀熹张新彬冯新凯古克义梁万国
申请人 ：
中国科学院福建物质结构研究所
申请人地址 ：
福建省福州市鼓楼区杨桥西路155号
代理机构 ：
北京元周律知识产权代理有限公司
代理人 ：
胡璇
优先权 ：
CN201920721956.9
主分类号 ：
G01M11/02
IPC分类号 ：
G01M11/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01M
机器或结构部件的静或动平衡的测试；其他类目中不包括的结构部件或设备的测试
G01M11/02
•光学性质测试
法律状态
2019-11-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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