一种快速对焦暗场成像装置
授权
摘要
本实用新型提出一种快速对焦暗场成像装置，包括：光源系统、交叉相位调制系统和显微成像系统，所述光源系统产生激光束并输出至交叉相位调制系统，所述交叉相位调制系统将光源系统输入的激光束分成泵浦激光束和探测激光束，所述泵浦激光束和探测激光束进行交叉相位调制后产生空心光束，并输出至显微成像系统，所述显微成像系统基于所述空心光束进行暗场成像。本实用新型基于交叉相位调制技术实现快速对焦暗场成像，利用探测激光束在交叉相位调制中产生的空心光束代替现有透射式暗场成像装置中的挡光板，提高了暗场成像光强度，并通过泵浦光功率调节空心光束尺寸来进行快速对焦，革新了现有暗场成像装置，市场前景广阔。
基本信息
专利标题 ：
一种快速对焦暗场成像装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020371532.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-20
授权号 ：
CN212111960U
授权日 ：
2020-12-08
发明人 ：
李松庭程雪梅张倩陈浩伟白晋涛
申请人 ：
西北大学
申请人地址 ：
陕西省西安市太白北路229号
代理机构 ：
东莞市科安知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
曾毓芳
优先权 ：
CN202020371532.7
主分类号 ：
G02B21/10
IPC分类号 ：
G02B21/10 G02B21/08 G02B21/36 G02F1/35
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B21/00
显微镜
G02B21/06
试样的照明装置
G02B21/08
聚光镜
G02B21/10
供暗场照明
法律状态
2020-12-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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