本发明涉及一种用于暗场和/或相衬干涉成像系统的探测器(10)。探测器包括多个像素(50)、多个第一探测器阵列(20)、多个第二探测器阵列(30)和处理单元(40)。多个像素以二维图案被布置。每个像素包括第一探测器阵列和第二探测器阵列。每个第一探测器阵列包括多个指状物(22)。每个第二探测器阵列包括多个指状物(32)。针对每个像素，第一探测器阵列的指状物与第二探测器阵列的指状物交替交错。针对每个像素，与入射X射线光子的相互作用可以导致在该像素的第一探测器阵列的至少一个指状物中的电荷生成，并且可以导致在该像素的第二探测器阵列的至少一个指状物中的电荷生成。针对每个像素，第一探测器阵列被配置为探测与第一探测器阵列的多个指状物相关联的累积电荷，并且第二探测器阵列被配置为探测与第二探测器阵列的多个指状物相关联的累积电荷。针对每个像素，处理单元被配置为基于具有最高累积电荷的探测器阵列将X射线相互作用事件分配给第一探测器阵列或第二探测器阵列。