采用梯形棱镜的五次曝光成像干涉光刻方法和系统
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
用梯形棱镜的五次曝光成像干涉光刻方法和系统，其特征是采用梯形棱镜与可编程选通快门结合，为掩模提供不同方位的照明(垂直于掩模的照明，使低空间频率成份曝光；沿+X方向的偏置照明与沿－X方向的偏置照明，使沿X方向分布的较高空间频率成分曝光；沿+Y方向的偏置照明与沿－Y方向的偏置照明，使沿Y方向分布的较高空间频率成份曝光)，实现五次曝光成像干涉光刻曝光。本发明无任何移动部件、曝光之间不需光路调整和图像对准，用可编程选通快门控制五次曝光的曝光时间(曝光剂量)和间隔时间，系统方便灵活、可优化曝光剂量，提高分辨率和图像质量。
基本信息
专利标题 ：
采用梯形棱镜的五次曝光成像干涉光刻方法和系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1752849A
申请号 ：
CN200510086829.9
公开（公告）日 ：
2006-03-29
申请日 ：
2005-11-10
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
冯伯儒张锦刘娟
申请人 ：
中国科学院光电技术研究所
申请人地址 ：
610209四川省成都市双流350信箱
代理机构 ：
北京科迪生专利代理有限责任公司
代理人 ：
刘秀娟
优先权 ：
CN200510086829.9
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G02B5/04 G02B27/60
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2009-08-12 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2008-02-27 ：
实质审查的生效
2006-03-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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