采用环形光栅和选通快门的成像干涉光刻方法和系统
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
采用环形光栅和选通快门的成像干涉光刻方法，其特征在于：采用环形光栅和选通快门装置为三次曝光成像干涉光刻提供垂直于掩模平面的照明、X方向偏置照明和Y方向偏置照明，实现成像干涉光刻的三次曝光。本发明通过选通快门控制，无任何影响系统稳定性的部件，曝光之间无须调整光路和图像对准，用选通快门的开启时间控制三次曝光的曝光剂量，优化曝光剂量比，提高图形对比度和分辨率，改善图形质量，方便、灵活实现三次曝光，有利于提高曝光效率和促进成像干涉光刻实用化。
基本信息
专利标题 ：
采用环形光栅和选通快门的成像干涉光刻方法和系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1752848A
申请号 ：
CN200510086828.4
公开（公告）日 ：
2006-03-29
申请日 ：
2005-11-10
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
张锦冯伯儒
申请人 ：
中国科学院光电技术研究所
申请人地址 ：
610209四川省成都市双流350信箱
代理机构 ：
北京科迪生专利代理有限责任公司
代理人 ：
刘秀娟
优先权 ：
CN200510086828.4
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G02B5/18 G02B27/60
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2009-08-26 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2008-02-27 ：
实质审查的生效
2006-03-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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