采用一个声光偏转器的成像干涉光刻方法和系统，其特征在于只使用一个声光偏转器，使从激光器发出的激光束发生偏转，当声光偏转器未加超声功率时，激光束直接透过声光偏转器，为掩模提供垂直照明；当声光偏转器水平方向加上一定频率的超声功率时，则在X方向产生偏转角正比于超声频率的一级衍射光，为水平方向偏置曝光提供照明，当声光偏转器垂直方向上加上超声功率时，则为垂直方向偏置曝光提供照明。通过改变超声功率可方便调节一级衍射光强度，易于实现不用衰减滤光片的曝光强度控制和不同空间频率成份曝光剂量控制，通过改变超声波频率可实时控制偏转角大小，可灵活、方便、快捷地实现成像干涉光刻所需的三次曝光，提高曝光效率和抗蚀剂图形质量。