一种采用白激光的成像干涉光刻方法和系统
专利权的终止
摘要
一种采用白激光的成像干涉光刻方法和系统，其特征是采用包含多个波长的白激光源与分光元件结合，并从分光元件分离出的多个波长中分别取出波长为λ提供垂直于掩模的照明、X方向偏置照明和Y方向偏置照明，三波长各自产生的图形在抗蚀剂基片上非相干叠加，一次曝光实现传统成像干涉光刻技术所需的三次曝光，系统中没有任何需要在曝光过程中调整的部件，一次曝光大大提高了曝光效率，有利于成像干涉光刻技术的推广应用。
基本信息
专利标题 ：
一种采用白激光的成像干涉光刻方法和系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1786822A
申请号 ：
CN200510086952.0
公开（公告）日 ：
2006-06-14
申请日 ：
2005-11-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
冯伯儒张锦
申请人 ：
中国科学院光电技术研究所
申请人地址 ：
610209四川省成都市双流350信箱
代理机构 ：
北京科迪生专利代理有限责任公司
代理人 ：
刘秀娟
优先权 ：
CN200510086952.0
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H01L21/027
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2011-03-09 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101055725299
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL2005100869520
申请日 : 20051123
授权公告日 : 20090429
终止日期 : 20091223
号牌文件序号 : 101055725299
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL2005100869520
申请日 : 20051123
授权公告日 : 20090429
终止日期 : 20091223
2009-04-29 ：
授权
2008-02-27 ：
实质审查的生效
2006-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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