用于扫描暗场和相位对比成像的射束硬化校正
授权
摘要
一种用于处理由扫描相位对比或暗场成像装置(MA)供应的图像数据的装置和相关的方法。相位对比和暗场成像中的射束硬化伪影能够由射束硬化处理模块(BHC)关于多个探测器读数应用射束硬化处理操作来减少，所述多个探测器读数对装置(MA)的成像区域的同一图像像素位置或几何射线贡献信号。在一个实施例中，体模体(PB)被用于采集射束硬化处理所基于的校准数据。
基本信息
专利标题 ：
用于扫描暗场和相位对比成像的射束硬化校正
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN107567640A
申请号 ：
CN201680026448.8
公开（公告）日 ：
2018-01-09
申请日 ：
2016-05-06
授权号 ：
CN107567640B
授权日 ：
2022-04-05
发明人 ：
T·克勒H·德尔E·勒斯尔
申请人 ：
皇家飞利浦有限公司
申请人地址 ：
荷兰艾恩德霍芬
代理机构 ：
永新专利商标代理有限公司
代理人 ：
王英
优先权 ：
CN201680026448.8
主分类号 ：
G06T11/00
IPC分类号 ：
G06T11/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算；推算或计数
G06T
一般的图像数据处理或产生
G06T11/00
2D图像的生成
法律状态
2022-04-05 ：
授权
2018-06-01 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G06T 11/00
申请日 : 20160506
申请日 : 20160506
2018-01-09 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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