用于PECVD设备的配套供应系统
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摘要
本实用新型提供了一种用于PECVD设备的配套供应系统，用于PECVD设备的配套供应系统包括循环水管路系统，循环水管路系统包括：进水管路装置，进水管路装置与腔体和/或设备组件连通；出水管路装置，出水管路装置与腔体和/或设备组件连通；其中，进水管路装置能够将冷却水输入腔体和/或设备组件以实现对PECVD设备的冷却降温功能。本实用新型的技术方案中，由于进水管路装置能够向PECVD设备的腔体和/或设备组件内输入冷却水，这样能够对PECVD设备进行整体地冷却降温，从而使得PECVD设备中需要降温的腔体和/或设备组件得到良好的降温，避免了PECVD设备超温工作而发生运行故障的问题，进而确保PECVD设备能够正常地工作。
基本信息
专利标题 ：
用于PECVD设备的配套供应系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022452258.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-29
授权号 ：
CN213570729U
授权日 ：
2021-06-29
发明人 ：
左国军梁建军柳昆鹏
申请人 ：
常州捷佳创精密机械有限公司
申请人地址 ：
江苏省常州市新北区机电工业园宝塔山路9号
代理机构 ：
北京友联知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
尚志峰
优先权 ：
CN202022452258.9
主分类号 ：
C23C16/50
IPC分类号 ：
C23C16/50 F25D17/02 H01L31/18
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/50
借助放电的
法律状态
2021-06-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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