坩埚托盘
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摘要
本实用新型涉及一种坩埚托盘，包括支撑平台和至少两个隔板，沿支撑平台的第一方向，支撑平台的两端分别设置有侧板，沿支撑平台的第二方向，至少两个隔板间隔设置于支撑平台的一侧面，第一方向与第二方向垂直，隔板位于两个侧板之间，相邻两个隔板之间的间距可调，且相邻两个隔板与支撑平台围设形成用于容纳坩埚的容纳槽，隔板的长度方向与第一方向平行。通过在支撑平台上设置可调节间距的隔板，并将坩埚放置在相邻两个隔板之间，实现对坩埚的存放，具有结构简单、通用性强的特点。
基本信息
专利标题 ：
坩埚托盘
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022467907.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-30
授权号 ：
CN213624349U
授权日 ：
2021-07-06
发明人 ：
南灿宇
申请人 ：
乐金显示光电科技（中国）有限公司
申请人地址 ：
广东省广州市广州高新技术产业开发区科学城开泰大道59号
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
胡彬
优先权 ：
CN202022467907.2
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24
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IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2021-07-06 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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