扫描光学系统的制造方法
公开
摘要
本发明是扫描光学系统的制造方法，能够在不改变入射光学系统以及包含扫描透镜的成像光学系统的情况下，通过仅改变多面反射镜来获得有效扫描宽度不同的扫描光学系统，其中，该扫描光学系统的制造方法包含以下步骤：使用与第1值的有效扫描宽度对应的第1多面反射镜(1101)来设计第1扫描光学系统；将偏转基准点定在该第1扫描光学系统的偏转基准点(O(0，0))的位置来设计第2光学系统，该第2光学系统具有与比该第1值小的第2值的有效扫描宽度对应的第2多面反射镜(1102)，其中，该第1扫描光学系统的偏转基准点的位置是偏转角为0的情况下的光线在该第1多面反射镜(1101)的反射面上的反射点；以及调整该扫描透镜的形状和位置，以调整副扫描方向截面中的该成像光学系统的横向倍率。
基本信息
专利标题 ：
扫描光学系统的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114303087A
申请号 ：
CN202080060182.5
公开（公告）日 ：
2022-04-08
申请日 ：
2020-04-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
小田纯平桑垣内智仁
申请人 ：
纳卢克斯株式会社
申请人地址 ：
日本大阪府
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
于靖帅
优先权 ：
CN202080060182.5
主分类号 ：
G02B26/12
IPC分类号 ：
G02B26/12 B41J2/47 H04N1/113
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B26/00
利用可移动的或可变形的光学元件控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的光学器件或装置，例如，开关、选通或调制
G02B26/08
控制光的方向
G02B26/10
扫描系统
G02B26/12
用多面反射镜的
法律状态
2022-04-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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