用于电镀单元的低角度膜框架
实质审查的生效
摘要
一种处理衬底的单元包括至少一个室壁、膜框架和膜。至少一个室壁布置成在衬底的保持器下方形成腔体。膜框架设置在至少一个室壁上并横跨腔体。膜由膜框架支撑并将第一电解质与第二电解质隔开。膜包括从腔体的中心以相对于参考平面的角度径向向外延伸的表面，并且其中该角度大于或等于0°且小于或等于3°。
基本信息
专利标题 ：
用于电镀单元的低角度膜框架
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114341404A
申请号 ：
CN202080062180.X
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2020-09-02
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
弗雷德里克·迪恩·威尔莫特罗伯特·拉什尼马尔·尚卡尔·西格玛尼加布里埃尔·格拉哈姆
申请人 ：
朗姆研究公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
上海胜康律师事务所
代理人 ：
樊英如
优先权 ：
CN202080062180.X
主分类号 ：
C25D17/00
IPC分类号 ：
C25D17/00 C25D21/00 C25D7/12
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法；电铸；工件的电解法接合；所用的装置
C25D17/00
电解镀覆用电解槽的结构件、或其组合件
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C25D 17/00
申请日 : 20200902
申请日 : 20200902
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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