真空布拉格光栅和制造方法
实质审查的生效
摘要
本文中描述了用于波导中的光栅和产生光栅的方法的改进。与常规SRG和布拉格(Bragg)光栅相比，深表面起伏光栅(SRG)可提供许多优点，重要的一个优点为较高的S衍射效率。在一个实施例中，深SRG可实施为聚合物表面起伏光栅或真空布拉格光栅(EBG)。可通过首先记录全息聚合物分散液晶(HPDLC)光栅来形成EBG。从经固化光栅去除液晶提供聚合物表面起伏光栅。聚合物表面起伏光栅具有许多应用，包括用于基于波导的显示器中。
基本信息
专利标题 ：
真空布拉格光栅和制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114450608A
申请号 ：
CN202080062857.X
公开（公告）日 ：
2022-05-06
申请日 ：
2020-08-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
J·D·沃德恩A·J·格兰特M·M·波波维奇S·阿布拉哈姆B·G·希尔T-J·霍
申请人 ：
迪吉伦斯公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚
代理机构 ：
中国贸促会专利商标事务所有限公司
代理人 ：
周阳君
优先权 ：
CN202080062857.X
主分类号 ：
G02B6/10
IPC分类号 ：
G02B6/10 G02B6/34 G02B27/01 G02B5/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B6/00
光导；包含光导和其他光学元件的装置的结构零部件
G02B6/10
光波导式的
法律状态
2022-05-24 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 6/10
申请日 : 20200828
申请日 : 20200828
2022-05-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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