使用机器学习来生成用于晶片检查的预测图像的系统和方法
实质审查的生效
摘要
提供了一种使用机器学习来生成用于晶片检查的预测图像的系统和方法。该系统和方法的一些实施例包括获取在被施加到晶片的光致抗蚀剂已被显影之后的晶片；对经显影的晶片的片段进行成像；获取在晶片已被蚀刻之后的晶片；对经蚀刻的晶片的片段进行成像；使用经显影的晶片的成像部分和经蚀刻的晶片的成像片段来训练机器学习模型；以及使用经蚀刻的晶片的成像片段来应用经训练的机器学习模型以生成经显影的晶片的预测图像。一些实施例包括对经显影的晶片的片段进行成像；对经蚀刻的晶片的片段的一部分进行成像；训练机器学习模型；以及应用经训练的机器学习模型以生成经显影的晶片的预测蚀刻后图像。
基本信息
专利标题 ：
使用机器学习来生成用于晶片检查的预测图像的系统和方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114521234A
申请号 ：
CN202080065924.3
公开（公告）日 ：
2022-05-20
申请日 ：
2020-09-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
M·皮萨伦科S·A·米德尔布鲁克M·J·马斯洛M-C·范拉尔C·巴蒂斯塔基斯
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
赵林琳
优先权 ：
CN202080065924.3
主分类号 ：
G01N23/2251
IPC分类号 ：
G01N23/2251 G03F7/20 G06T7/00 H01L21/66 G06N3/04 G06N3/08
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料，例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/22
通过测量材料的二次发射
G01N23/225
利用电子或离子微探针
G01N23/2251
使用入射电子束，例如扫描电子显微镜
法律状态
2022-06-07 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 23/2251
申请日 : 20200914
申请日 : 20200914
2022-05-20 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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