公开了一种用于EUV光刻设备的辐射源。辐射源包括：腔室，包括等离子体形成区域；辐射收集器，被布置在腔室中，被配置成收集在等离子体形成区域发射的辐射并将所收集的辐射引向中间焦点区域；以及辐射管道，设置在辐射收集器和中间焦点区域之间。辐射管道包括：在辐射管道的壁的内表面上的用于引导保护性气流的至少一个出口，以及从辐射管道的壁的内表面延伸并且被配置成重新引导保护性气流的至少一个引导部分。还公开了一种通过将保护性气流提供到辐射管道的至少一个出口来减少辐射管道中的碎片和/或蒸汽沉积的方法。