多区坩埚设备
实质审查的生效
摘要

本发明涉及一种坩埚设备,包括坩埚和围绕坩埚布置的一个或多个感应线圈。当向一个或多个感应线圈施加电功率时,在坩埚的至少第一部分中产生第一热区,并且在坩埚的至少第二部分中产生第二热区,其中第一热区的第一热特性不同于第二热区的第二热特性。

基本信息
专利标题 :
多区坩埚设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114555855A
申请号 :
CN202080071229.8
公开(公告)日 :
2022-05-27
申请日 :
2020-08-21
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
M.伦达尔
申请人 :
戴森技术有限公司
申请人地址 :
英国威尔特郡
代理机构 :
北京市柳沈律师事务所
代理人 :
张邦帅
优先权 :
CN202080071229.8
主分类号 :
C23C14/26
IPC分类号 :
C23C14/26  C23C14/54  H05B6/30  H05B6/24  H05B6/06  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/26
电阻加热蒸发源法或感应加热蒸发源法
法律状态
2022-06-14 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/26
申请日 : 20200821
2022-05-27 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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