多区坩埚设备
实质审查的生效
摘要
本发明涉及一种坩埚设备，包括坩埚和围绕坩埚布置的一个或多个感应线圈。当向一个或多个感应线圈施加电功率时，在坩埚的至少第一部分中产生第一热区，并且在坩埚的至少第二部分中产生第二热区，其中第一热区的第一热特性不同于第二热区的第二热特性。
基本信息
专利标题 ：
多区坩埚设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114555855A
申请号 ：
CN202080071229.8
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2020-08-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
M.伦达尔
申请人 ：
戴森技术有限公司
申请人地址 ：
英国威尔特郡
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
张邦帅
优先权 ：
CN202080071229.8
主分类号 ：
C23C14/26
IPC分类号 ：
C23C14/26 C23C14/54 H05B6/30 H05B6/24 H05B6/06
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/26
电阻加热蒸发源法或感应加热蒸发源法
法律状态
2022-06-14 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/26
申请日 : 20200821
申请日 : 20200821
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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