流体阻抗组件及流体控制装置
公开
摘要
本发明提供一种流体阻抗组件，使得享有使用陶瓷形成阻抗流路带来的优点的同时，能够将该流体阻抗组件合理地组装至流体所流动的流路，流体阻抗组件(R)包括：陶瓷制的流路形成构件(10)，具有一个或多个阻抗流路(10a)；以及金属制的被覆构件(20)，覆盖流路形成构件(10)的外周面。
基本信息
专利标题 ：
流体阻抗组件及流体控制装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114600056A
申请号 ：
CN202080074025.X
公开（公告）日 ：
2022-06-07
申请日 ：
2020-10-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
安田忠弘安德鲁·普莱斯马雷
申请人 ：
株式会社堀场STEC
申请人地址 ：
日本京都府
代理机构 ：
北京信慧永光知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
李成必
优先权 ：
CN202080074025.X
主分类号 ：
G05D7/06
IPC分类号 ：
G05D7/06 G01F1/48
IPC结构图谱
G
G部——物理
G05
控制；调节
G05D
非电变量的控制或调节系统
G05D7/00
流量控制
G05D7/06
以使用电装置为特征的
法律状态
2022-06-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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